Advances in CMP Polishing Technologies DOI, Toshiro (Professor of Manufacturing Processes, Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, Japan) ; Marinescu, Ioan D. (Professor and Director, Precision Micromachining Center, The University of Toledo, Toledo, OH, USA) ; Kurokawa, Syuhei

CMP and polishing are the most precise processes used to finish the surfaces of mechanical and electronic or semiconductor components. This title presents the developments and technological innovations in the field - making R&D accessible to the wider engineering community.
Voorraad:
Nieuw
Verkrijgbaar in
Webshop
Prijs:
€ 162,55
Voorraad:
Levertijd:

Bezorgtijd: 14 tot 16 Dagen.

Winkelvoorraad

Het kan zijn dat er op dit moment een verkoop plaatsvindt, waardoor de actuele voorraad afwijkt. Hier kunnen geen rechten aan worden ontleend!

Levertijd

U kunt uw bestelling online plaatsen en betalen, bij het afrekenen kunt u ervoor kiezen om het boek in de gewenste winkel op te halen op dat moment vervallen ook de verzendkosten Indien u kiest voor afhalen in een filiaal, zal uw bestelling meestal op korte termijn, soms zelfs direct, voor u klaarliggen. Wij nemen in alle gevallen contact met u op wanneer het artikel afgehaald kan worden. De bezorgtijd van Nederlandse titels en tweedehands bedraagt gemiddeld 1-2 werkdagen. De bezorgtijd van anderstalige boeken bedraagt gemiddeld 2-5 werkdagen. De bezorgtijd van boeken die geïmporteerd worden is verschillend, gemiddeld 5-10 werkdagen. U krijgt bericht wanneer het levermoment bekend is.

.
pro-mbooks1 : broekhuis